酸銅中間體探討
2021-08-13 11:31
酸銅中間體由于鍍層韌性好，光亮流平性好，沉積速度快，用于塑料電鍍金屬銅鎳鉻裝飾鍍和印制板孔金屬化電鍍和電鑄。 占據重要位置。 要想取得好的效果，充分發揮其優勢，關鍵在于光亮劑。 對于增白劑的研究，世界各國在這方面開展了廣泛的工作，并大力研究硫脲衍生物，并開始研究其他染料，以及含羥基雜環等增白劑和勻染劑。 化合物和聚醚化合物。 代理人。 近二十年來，國內許多單位也對酸銅中間體進行了研究，并取得了顯著的成果。 走國道，打造國際品牌，國產光亮劑已經替代進口光亮劑，在某些方面也優于進口光亮劑。
2） 酸銅中間體
為了在酸性鍍銅中獲得細晶、高光澤和高流平的鏡面效果，必須加入光亮劑、流平劑和表面活性劑三種助劑。
2.1光亮劑，S型光亮劑主要是Na和H，用于細化晶粒，增強高電流密度區域的亮度和流平劑。
主要成分為有機含硫磺酸鹽等主要發光基團。 高端光亮劑中間體包括醇硫代丙烷磺酸鈉（HP）、二甲基甲酰胺磺酸鈉（TPS）和噻二胺二硫代丙烷磺酸（SH110）。 HP 是一種用于酸性鍍銅浴的晶粒細化劑，可替代傳統的 SP（聚二硫化物丙烷磺酸鈉）。 與SP相比，涂層顏色清晰亮麗，用量范圍廣，不起霧，低級效果好。 優勢。 TPS的性能類似于SP。 其高區定位性能極佳。 光亮劑成分的性能易于控制。 是替代SP的新一代高性能銅酸中間體； SH110與SP的功能基本相同，區別在于晶粒細化。 該劑與流平劑結合的產物。 這種工藝特別適用于電路板電鍍和電鑄銅。
2.2勻染劑，多為雜環化合物和染料。
主要功能對低處的亮度和平整度有很好的效果。 高端流平劑中間體包括四氫噻唑基（H1）聚乙烯亞胺烷基化合物（GISS）、脂肪胺乙氧基磺酸鹽（AESS）、巰基咪唑丙烷磺酸鹽（MESS）、二氮嗪染料（MDD），H1具有很強的流平性能。 是替代N（亞乙基硫脲）的優良流平劑。 GISS是聚乙烯亞胺在特定條件下縮合而成的高性能定位劑。 , 在低電流密度區域具有出色的定位性能。 AESS是一種強酸性銅定位劑。 在鍍液中加入AESS，可以顯著提高低電流密度區的亮度和流平性，同時也有一定的潤濕作用。 MESS是一種優良的中低級光亮劑，可替代M。 與M相比，具有較強的水溶性和流平性。 適當增加浴液不會渾濁，涂層不會產生砂粒。 MDD染料是一種強流平低定位劑，可使涂層特別飽滿、光亮。
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